周一(8日)盤后，上海新陽公告稱，經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，ASML-1400光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創(chuàng)新中心(北京)有限公司場地，后續(xù)將進行安裝調(diào)試等相關工作。公司采購的ASML干法光刻機設備順利交付，對加快193nmArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進度有積極影響。

　　值得注意的是，天眼查數(shù)據(jù)顯示，合作方北方集成電路技術創(chuàng)新中心(北京)有限公司的股東為核心鏈融創(chuàng)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展(北京)有限公司，該公司由26家國內(nèi)半導體企業(yè)共同出資組建，其中包括北京凱世通半導體有限公司。北京亦莊和中芯國際的股權比例分別為25%和25%，位居第二。

　　項目立項4年屢次受挫，國產(chǎn)替代浪潮終現(xiàn)曙光。

　　對上海新陽自身而言，ASML干式光刻機設備的順利交付意義非凡。據(jù)公開資料顯示，早在2016年底，上海新陽就已經(jīng)開始研發(fā)193納米干法光刻膠，但在后續(xù)的研發(fā)過程中，進展卻一再受挫。

　　2017年3月，上海新陽和上海逸納共同出資，成立芯刻微，從事193nm干法高端光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化，但兩家公司在次年5月終止合作;同年12月，兩家公司以自有資金投資江蘇博硯電子科技有限公司，并擁有博硯電子公司10%股權，后者主要從事與平板顯示行業(yè)相關的光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)。

　　上海新陽將于2019年10月啟動合肥二號生產(chǎn)基地項目。合肥基地占地115畝，總投資約6億元。按規(guī)劃，一期投資3億元，占地50畝，建成投產(chǎn)后形成年產(chǎn)超純化工產(chǎn)品15000噸的生產(chǎn)能力。按照公司在定增公告中的說法，此次定增計劃將部分資金用于該項目。

　　到2020年，上海新陽對這一項目的投資將更加激進。八月份，公司公告擬追加募資不超過15億元，其中7.32億元用于集成電路制造用高端光刻膠的研發(fā)，產(chǎn)業(yè)化。重點發(fā)展ArF干法生產(chǎn)用光刻膠及面向3DNAND級腐蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品，力爭到2023年實現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。

　　11月份，公司再次公告，擬向特定對象發(fā)行股票不超過14.5億元的募集資金中，有8.15億元將用于上述項目。如項目進展順利，預計KrF厚膜光刻膠項目將于2021年開始量產(chǎn)，2022年可量產(chǎn)，ArF(干式)光刻膠項目預計于2022年開始量產(chǎn)，2023年開始量產(chǎn)，各產(chǎn)品的年預計銷售收入合計將接近2億元。

　　去年3月16日，東吳證券分析師柴沁虎在報告中指出，上海新陽一直致力于半導體光刻膠產(chǎn)業(yè)化，雖然中間經(jīng)歷了一段彎路，但參股博硯電子后，可以有效地借鑒博硯電子的成功經(jīng)驗。與此同時，公司與博硯電子也有一定程度的產(chǎn)業(yè)協(xié)同，認為公司是國內(nèi)最有可能率先在集成電路用高端光刻膠領域?qū)崿F(xiàn)實質(zhì)性突破的企業(yè)。

　　關鍵設備“松綁”阿斯麥國產(chǎn)高端光刻膠持續(xù)突破。

　　自去年以來，國產(chǎn)替代浪潮席卷半導體產(chǎn)業(yè)，而光刻膠作為半導體光刻工藝的核心材料，決定著半導體制圖工藝的度和良率，成為最為引人注目的環(huán)節(jié)之一。

　　2015年12月17日，南大光電公告，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的193nmArF光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶使用證明，標志著ArF光刻膠國內(nèi)通過產(chǎn)品驗證的國產(chǎn)產(chǎn)品誕生，標志著長期以來被國外壟斷的ArF光刻膠最終走向國產(chǎn)化。

　　根據(jù)不同的工藝路線，半導體光刻膠可以分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠和G線、i線光刻膠，前三種光刻膠都是高端產(chǎn)品，產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)的數(shù)據(jù)顯示，到2019年國內(nèi)g/i線光刻膠只有20%的自給率，KrF光刻膠自給率不足5%，而KrF光刻膠則完全依靠進口。

　　國內(nèi)高端光刻膠替代產(chǎn)品困難的背后，是國內(nèi)企業(yè)在研發(fā)過程中嚴重依賴高端光刻膠。因為光刻膠的研制開發(fā)需要有相應光刻機的支持，量產(chǎn)后需要在光刻機上進行連續(xù)調(diào)試。而且光刻機價格昂貴，國內(nèi)半導體材料企業(yè)承受不了，因此高端光刻膠基本被日本和歐美壟斷。

　　本月3日，中芯國際宣布，已與荷蘭光刻機制造商阿斯麥簽署12.02億美元的采購合同。另外，科創(chuàng)板日報1日獲悉，為中芯國際提供高制程(14nm及以上)工藝部件所需設備的美國設備制造商已獲美許可證。

　　針對這一情況，華金證券胡慧小組3月7日發(fā)布報告稱，中芯國際14nm及以上成熟制程禁令“松綁”，表明我國大陸晶圓代工龍頭在成熟制程上的發(fā)展前景更加明朗，未來美國設備供應商有望獲得更多的供貨許可。

　　當日中金公司彭虎團隊報告也指出，半導體設備和材料是高端制造業(yè)發(fā)展的基礎，在獲得美國設備許可的同時，中芯國際建議重點關注上游設備和原材料。

　　另外，據(jù)華泰證券胡劍團隊2020年11月18日報道，在半導體供應鏈安全日益受到重視的背景下，國產(chǎn)光刻膠的研發(fā)與量產(chǎn)或?qū)⒓铀�，國�?nèi)廠商計劃擴大被日美壟斷的半導體光刻膠領域的投資，并在高端ArF光刻膠領域的研發(fā)與量產(chǎn)方面持續(xù)突破。